【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis-Chemicalmethodsforthecollectionofelementsfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsandtheirdeterminationbytotal-reflectionX-rayfluorescence(TXRF)spectroscopy;Amendment1
【原文标准名称】:表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1
【标准号】:ISO17331AMD1-2010
【标准状态】:现行
【国别】:国际
【发布日期】:2010-07
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际标准化组织(IX-ISO)
【起草单位】:ISO/TC201
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:化学分析和试验;含量测定;精整;印制电路板;特性;硅;硅片;光谱学;表面;全反射;薄片;X射线;X射线分析;X射线荧光光谱法
【英文主题词】:Chemicalanalysisandtesting;Determinationofcontent;Finishes;Printed-circuitboards;Properties;Silicon;Siliconslices;Spectroscopy;Surfaces;Totalreflection;Wafers;X-ray;X-rayanalysis;X-rayfluorescencespectrometry
【摘要】:
【中国标准分类号】:G04
【国际标准分类号】:
【页数】:8P;A4
【正文语种】:英语